Țintele de tantalusunt utilizate pe scară largă în domeniul semiconductorilor. Dintre acestea, cea mai comună aplicație este pentru prepararea cristalelor semiconductoare semiconductoare. Prin procese precum depunerea fizică de vapori, un strat de material semiconductor este depus pe suprafața țintei de tantal, iar apoi sămânța este însămânțată cu o placă semiconductoare. Materialul semiconductor preparat are avantajele purității ridicate, densității scăzute a defectelor, uniformității bune etc. și poate fi utilizat pentru fabricarea dispozitivelor semiconductoare de înaltă performanță.
Pe lângă prepararea cristalelor semiconductoare semiconductoare, țintele de tantal pot fi utilizate și pentru a prepara alte materiale semiconductoare, cum ar fi siliciu, germaniu, carbură de siliciu etc. În procese precum depunerea chimică în vapori, țintele de tantal sunt introduse în camera de reacție împreună cu alte precursorii semiconductorilor pentru a reacţiona şi a genera filmul semiconductor necesar.