Tantalum Crucibles For E-Beam Sources high quality
1/
Creuzete de tantal pentru surse de fascicule E-
Crezetele de tantal pentru sursele cu fascicul E sunt containere-concepute cu precizie utilizate în sistemele de evaporare cu fascicul de electroni, unde stabilitatea termică ridicată și degajarea ultra-scăzută sunt esențiale pentru a menține integritatea vidului și puritatea depozitului.
Trimite anchetă
Descriere
Parametrii tehnici
Rolul creuzetelor de tantal în evaporarea fasciculului de electroni
Crezetele de tantal pentru sursele cu fascicul E sunt containere-concepute cu precizie utilizate în sistemele de evaporare cu fascicul de electroni, unde stabilitatea termică ridicată și degajarea ultra-scăzută sunt esențiale pentru a menține integritatea vidului și puritatea depozitului.
În depunerea cu fascicul E, un fascicul de electroni concentrat vaporizează materialul sursă în interiorul creuzetului, iar vaporii rezultați se condensează pe substraturi sub formă de pelicule subțiri. Tantalul este ales deoarece punctul său de topire ridicat permite evaporarea metalelor refractare (de exemplu, W, Mo, Ta în sine) și a oxizilor fără cedarea creuzetului. Presiunea sa scăzută a vaporilor la temperaturi de funcționare (<10⁻⁸ Pa at 2500 °C) prevents crucible material from contaminating the deposited film. Additionally, tantalum's low outgassing rate (<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²) helps sustain UHV conditions (<10⁻⁷ Pa) crucial for high‑performance optics and semiconductor coatings.
Proprietate
Valoare / Interval
Importanța în funcționarea sursei E-Beam
Punct de topire
3017 grade
Permite evaporarea materialelor cu punct de topire înalt-
Presiunea vaporilor @ 2500 de grade
<10⁻⁸ Pa
Elimină contaminarea cu vapori de creuzet
Rata de degajare (UHV)
<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²
Menține calitatea vidului pentru depuneri curate
Conductivitate termică
57 W/m·K
Asigură o încălzire uniformă și reduce punctele fierbinți
Considerații de proiectare pentru creuzetele de tantalu cu fascicul E
Creuzetele sunt fabricate cu pereți subțiri (1–3 mm) pentru a maximiza transferul de căldură de la fasciculul de electroni, minimizând în același timp masa termică stocată. Geometria este adesea cilindrică cu fundul rotunjit pentru a evita colțurile ascuțite în care materialul topit ar putea stagna sau supraîncălzi local. Pentru a rezista deteriorării cauzate de electronii cu energie înaltă-, unele modele încorporează mantale răcite cu apă sau folosesc creuzete cu orientare adaptată a granulelor pentru a distribui impactul electronilor în mod uniform.
Cazuri de utilizare industrială pentru creuzetele de tantalu cu fascicule E
Acoperire optică – Evaporarea TiO₂, Al₂O₃ și SiO₂ pentru lentile și oglinzi laser care necesită un control ridicat al indicelui de refracție.Microelectronica – Depunerea straturilor de barieră (de exemplu, TaN) și a metalelor de interconectare în cazul în care puritatea afectează direct fiabilitatea dispozitivului.Tehnologia de afișare– Evaporarea uniformă a oxidului de indiu staniu (ITO) pentru acoperiri conductoare transparente.Compatibilitatea lor cu sistemele automate de alimentare și duratele de viață lungi le fac să fie standard în camerele de acoperire de mare capacitate pentru sticlă arhitecturală, optică de precizie și substraturi electronice avansate.
Material de evaporare 99,95% 3N5 creuzet de tantal pentru evaporator cu fascicul de electroni
Instalație de procesare a pieselor de tantal, personalizată cu dimensiuni diferite, creuzet de tantal gri strălucitor pentru piese de proces de topire
Personalizat R05200 Ta 99,95% carbură de tantal din creuzet lustruit pur pe kg preț
