Aplicație în domeniul semiconductorilor
În producția de semiconductori,ținte de tungstensunt utilizate în principal în fotolitografie și tehnologia de depunere a filmelor subțiri. În procesul de fotolitografie, densitatea mare, duritatea ridicată și reactivitatea chimică scăzută a țintelor de tungsten le permit să ofere un control precis al gravării în timpul gravării cu plasmă, să reducă pierderile inutile de material și să asigure finețea și integritatea modelelor de circuit. În tehnologia de depunere a filmelor subțiri, țintele de tungsten formează pelicule dense prin depunerea fizică în vapori (PVD) și depunerea chimică în vapori (CVD). Aceste filme au duritate mare și rezistență la uzură, ceea ce îmbunătățește rezistența mecanică și durabilitatea dispozitivelor semiconductoare. În același timp, conductivitatea lor ridicată și impedanța scăzută ajută la îmbunătățirea eficienței conducției curente și la reducerea consumului de energie.
Aplicare în sursa de neutroni de spalație
Țintele de tungsten joacă, de asemenea, un rol cheie în dispozitivele sursă de neutroni de spalație. Sursele de neutroni de spalație produc neutroni prin bombardarea nucleelor atomice grele cu protoni de înaltă energie, care sunt utilizați pentru a studia microstructura și proprietățile dinamice ale materiei. Tungstenul a devenit un material preferat în dispozitivele de fuziune nucleară și sursele de neutroni de spalație datorită punctului său de topire ridicat, conductibilității termice ridicate și ratei scăzute de pulverizare.